Der niederländische Konzern bestätigte am Mittwoch entsprechende Aussagen der Intel-Entwicklungschefin Ann Kelleher bei einer Branchenkonferenz. Der US-Halbleiterkonzern ist der erste Abnehmer des High NA EUV-Lithographiesystems.
«High NA» steht für hohe Numerische Apertur und «EUV» für extrem ultra-violettes Licht. Mit den neuen Maschinen, jede so gross wie ein Doppeldecker-Bus und mehr als 350 Millionen Dollar teuer, können feinere Schaltkreise per Laser in Siliziumscheiben gebrannt werden als mit bisherigen Geräten. Dadurch werden Computerchips kleiner und leistungsfähiger.
(Reuters)
